【ASML计划2031年展示大尺寸掩模版技术,2033年量产以满足AI芯片需求】

亚汇期货网 2026-09-08 14:18:50

【ASML计划2031年展示大尺寸掩模版技术,2033年量产以满足AI芯片需求】(1) ASML表示,将与主要客户合作开发新方案,以满足英伟达等公司设计的大型数据中心芯片制造需求。(2) 当前广泛应用的EUV光刻机可制造面积约800平方毫米的芯片,下一代“高数值孔径”EUV虽能实现更精细制程,但因采用较小尺寸掩模版,在可制造芯片面积方面受限。(3) ASML计划到2031年展示采用更大尺寸掩模版的试验生产线,并于2033年使该新技术具备大规模量产能力。
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